GB/T 39145-2020《硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法》
本标准规定了电感耦合等离子体质谱法测定硅片表面金属元素含量的方法。br />本标准适用于硅单晶抛光片和硅外延片表面痕量金属钠、镁、铝、钾、钙、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌元br />素含量的测定，测定范围为10sup>8/sup>cmsup>-2/sup>~10sup>13/sup>cmsup>-2/sup>。本标准同时也适用于硅退火片、硅扩散片等无图形硅片表面痕量金属元素含量的测定。br />注:硅片表面的金属元素含量以每平方厘米的原子数计。
标准信息：
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- 中文名称：硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
- 英文名称：Test method for the content of surface metal elements on silicon wafers--Inductively coupled plasma mass spectrometry
- 标准分类：产品方法标准
- 国际标准分类：77.040
- 中国标准分类：H17
- 标准前缀：GB/T
- 标准状态：现行
- 发布单位：国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
- 发布日期：2020-10-11
- 废止日期：无
- 实施日期：2021-09-01
- 页数：12 页
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