GB/T 40110-2021《表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染》
本文件描述了测量经化学机械抛光或外延生长的硅片上表面元素污染的原子表面密度的TXRF方法。
本文件适用于以下情形：
——原子序数从16(S)到92(U)的元素；
——原子表面密度介于1X1010atoms/cm2～1X1014atoms/cm2之间的污染元素；
——采用VPD（气相分解）样品制备方法得到的原子表面密度介于5X108atoms/cm2~5X1012atoms/cm2之间的污染元素（见3.4）。
标准信息：
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- 中文名称：表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染
- 英文名称：Surface chemical analysis—Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
- 标准分类：产品方法标准
- 国际标准分类：71.040.40
- 中国标准分类：G04
- 标准前缀：GB/T
- 标准状态：现行
- 发布单位：国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
- 发布日期：2021-05-21
- 废止日期：无
- 实施日期：2021-12-01
- 页数：28 页
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