JIS K0148-2005《表面化学分析－全反射蛍光Ｘ線分析法（ＴＸＲＦ）测定硅晶体表面汚染元素的定量方法》

この規格は，シリコン鏡面ウェーハ又はエピタキシャルウェーハの表面原子濃度を，全反射蛍光X線分折法(TXRF)によって定量する方法について規定する。 この方法は，次の元素分析に適用する。—原子番号が16(S)から92(U)までの元素 —表面原子濃度が1 × 10<上10> atoms/cm<上2>から1 × 10<上14> atoms/cm<上2>までの汚染元素 —VPD試料前処理法を用いる場合は，表面原子濃度が5 × 10<上8> atoms/cm<上2>から5 × 10<上12> atoms/cm<上2>までの汚染元素

标准信息：

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  2. 中文名称：表面化学分析－全反射蛍光Ｘ線分析法（ＴＸＲＦ）测定硅晶体表面汚染元素的定量方法
  3. 英文名称：Surface chemical analysis--Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by tot
  4. 国际标准分类：01.040.71
  5. 中国标准分类：U55
  6. 标准语言：ja
  7. 标准状态：现行
  8. 发布日期：2005-03-20
  9. 废止日期：无
  10. 实施日期：2005-03-20
  11. 页数：30 页