GB/T 6620-2009《硅片翘曲度非接触式测试方法》

  本标准规定了硅单晶切割片、研磨片、抛光片(以下简称硅片)翘曲度的非接触式测试方法。
  
  本标准适用于测量直径大于50 mm,厚度大于180?m的圆形硅片。本标准也适用于测量其他半导体圆片的翘曲度。本测试方法的目的是用于来料验收或过程控制。本测试方法也适用于监视器件加工过程中硅片翘曲度的热化学效应。

标准信息:

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  2. 中文名称:硅片翘曲度非接触式测试方法
  3. 英文名称:Test method for measuring warp on silicon slices by noncontact scanning
  4. 标准分类:产品方法标准
  5. 国际标准分类:29.045
  6. 中国标准分类:H82
  7. 标准前缀:GB/T
  8. 标准状态:现行
  9. 发布单位:CN-GB
  10. 发布日期:2009-10-30
  11. 废止日期:
  12. 实施日期:2010-06-01
  13. 页数:10 页
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